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纳米集成电路制造工艺(第2版)
国内首本关于纳米集成电路制造工艺的著作。半导体产业领军人物张汝京组织,*半导体代工厂一线科研人员编写,清华大学王志华教授作序推荐。
开 本:32开
纸 张:胶版纸
包 装:平装-胶订
是否套装:否
国际标准书号ISBN:9787302452331
所属分类:
图书>工业技术>电子 通信>微电子学、集成电路(IC)
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编辑推荐
超大规模集成电路的生产工艺,从“微米级”到“纳米级”发生了许多根本上的变化。甚至,从45nm缩小至28nm(以及更小的线宽)也必须使用许多新的生产观念和技术。张汝京先生是随着半导体产业的发展成长起来的领军人物,见证了几个技术世代的兴起与淘汰。他本人有着深厚的学术根基,以及丰富的产业经验,其带领的团队是多年来在*半导体代工厂一线工作的科研人员,掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角,相信会给读者带来启发和帮助。
内容简介
本书共19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等内容。 再版时加强了半导体器件方面的内容,增加了先进的FinFET、3D NAND存储器、CMOS图像传感器以及无结场效应晶体管器件与工艺等内容。 继续阅读